Semi-conducteurs et électronique

Analyseurs pour le contrôle de la qualité des gaz d'ultra-haute pureté pour la fabrication de semi-conducteurs

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Détection et contrôle des traces d'impuretés essentielles pour la fabrication de semi-conducteurs

Les gaz spéciaux utilisés dans la fabrication des semi-conducteurs doivent être d'une grande pureté en raison de la précision du processus. Même la présence de traces d'impuretés, mesurées en parties par trillion, entraînera la perte de lots entiers de circuits intégrés. Des mesures fiables et répétables, des paramètres clés avec des limites de détection inférieures à <100 ppt, sont essentielles dans ces applications.

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Un seul fournisseur pour tous vos besoins de mesure

Nous vous proposons des mesures fiables de toutes les traces d’impuretés critiques avec des niveaux de détection faibles, jusqu'à des parties par milliard, pour de nombreux paramètres. Vous bénéficiez de la commodité et de la sécurité d'une solution complète proposée par un seul fournisseur. Les mesures de plusieurs traces impuretés sont également possibles avec un seul système d'analyse, pour plus de commodité.

Une solution complète pour surveiller et contrôler les traces d'impuretés dans les gaz spéciaux

Nos analyseurs et capteurs d'oxygène et d'humidité, ainsi que nos chromatographes en phase gazeuse, constituent une solution complète pour surveiller et contrôler la pureté des gaz inertes, des gaz spéciaux et des gaz toxiques tels que : azote (N2), hélium (He), argon (Ar), oxygène (O2), hydrogène (H2), hexafluorure de tungstène (WF6), octafluorocyclobutane (C4F8), silane (SiH4), germane (GEH4), oxyde nitreux (N2O) et triflurorure d'azote (NF3).

Sélecteur de produits

Trace O2 in UHP Gases

Application/Service Gamme de mesure Gaz mesuré/gaz de fond Produit recommandé
Contrôle de la contamination des gaz UHP par l'oxygène 0-100ppb N2, H2, Ar PI2-UHP100 & PI2-MS1000
Surveillance de la contamination par l'oxygène des gaz de balayage UHP H2 utilisés pour le soudage en atmosphère et le recuit des films de cuivre. 0-100ppb O2 N2, H2, Ar PI2-UHP100 & PI2-MS1000

Contamination par l'humidité dans les gaz UHP

Application/Service Gamme de mesure Gaz mesuré/gaz de fond Produit recommandé
Contrôle de la contamination des gaz UHP par l'oxygène 0-100 ppbV H2O
0-10 ppmV H2O
50 ppmV H2O
100 ppmV H2O
-120 à -40°C point de rosée		 Composés entièrement fluronés (FFC), N2, H2, Ar etc QMA401
Pura-TX-2WS800-RS

Confirmation de la pureté des gaz UHP

Application/Service Gamme de mesure Gaz mesuré/gaz de fond Produit recommandé
Confirmation de la pureté des gaz UHP 85-100ppt H2, N2, CH4, CO, NMHC, Ar/He, Ar, O2, MultiDetek3

Surveillance et contrôle des processus

Application/Service Gamme de mesure Gaz mesuré/gaz de fond Produit recommandé
Traitement thermique des tranches de silicium - Surveillance des traces d'oxygène dans les fours d'oxydation des tranches de silicium 0-10 ppm O2 N2, H2 GPR-1600
GPR-1200
Inertage dans les fours de refusion de la soudure et la fabrication des tranches de silicium <10 ppm O2 N2 Microx
Pocesses de nettoyage dans les chambres de dépôt chimique en phase vapeur - Surveillance des niveaux d'humidité après purge avec de l'azote de haute pureté. 0-100 ppmV H2O
0-10 ppmV H2O
50 ppmV H2O
100 ppmV H2O
-120 à -40 °C		 N2 Pura-TX-2W
QMA401

Surveillance de l'oxygène ambiant

Application/Service Gamme de mesure Gaz mesuré/gaz de fond Produit recommandé
Surveillance de l'environnement pour la sécurité du personnel - Protection du personnel contre la déficience en O2 dans les espaces confinés <19.5-20.0% Air, N2 Gasenz

Applications sélectionnées

Notes d'application

SEchantillon d'impuretés gazeuses

Limite de détection

REMARQUE : le niveau de bruit est basé sur les valeurs de bruit de crête en utilisant un gaz blanc à l'hélium.

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