Semicondutores e Eletrônica

Analisadores para Controle de Qualidade de Gás de Ultra Alta Pureza para Fabricação de Semicondutores

Detecção e Controle de Impureza de Traços Essenciais para a Fabricação de Semicondutores

Os gases especiais utilizados na fabricação de semicondutores devem ser de alta pureza, devido à precisão detalhada do processo. Mesmo a presença de impurezas vestigiais medidas em partes por trilhão resultará na perda de lotes inteiros de bolachas. Medidas confiáveis e repetíveis de parâmetros-chave com limites de detecção inferiores a <100 ppt são essenciais nestas aplicações.

Um único fornecedor para todas as suas necessidades de medição

Oferecemos medições confiáveis de todas as impurezas vestigiais críticas com baixos níveis de detecção a partes por bilhão para muitos parâmetros. Você se beneficia da conveniência e tranquilidade com uma solução completa de um único fornecedor. Medições múltiplas de impurezas de traços também são possíveis com um único sistema de analisador para uma conveniência ainda maior.

Uma Solução Completa para Monitorar e Controlar Impurezas de Traços em Gases Especiais

Nossos analisadores e sensores de oxigênio e umidade, juntamente com cromatógrafos de gases de processo, fornecem uma solução completa para monitorar e controlar a pureza de gases inertes, gases especiais e gases tóxicos, como por exemplo: nitrogênio (N2), hélio (Ele), argônio (Ar), oxigênio (O2), hidrogênio (H2), hexafluroreto de tungstênio (WF6), octafluorociclobutano (C4F8), silano (SiH4), germano (GEH4), óxido nitroso (N2O), e trifluroreto de nitrogênio (NF3).

Selecionador de produtos

Trace O2 em Gases UHP

Aplicação/Serviço Faixa de medição Measured Gas/Background Gas Produto recomendado
Monitoramento da contaminação por oxigênio de gases UHP 0-100ppb N2, H2, Ar PI2-UHP100 & PI2-MS1000
Monitoramento da Contaminação com Oxigênio de UHP H2 gases necrófagos utilizados na soldagem atmosférica e no recozimento de filmes de cobre. 0-100ppb O2 N2, H2, Ar PI2-UHP100 & PI2-MS1000

Contaminação por umidade em gases UHP

Aplicação/Serviço Faixa de medição Measured Gas/Background Gas Produto recomendado
Monitoramento da contaminação por oxigênio de gases UHP 0-100 ppbV H2O
0-10 ppmV H2O
50 ppmV H2O
100 ppmV H2O
-120 to -40°C dew point
Compostos totalmente fluronados (FFCs), N2, H2, Ar etc QMA401
Pura-TX-2WS800-RS

Confirmação da Pureza dos Gases UHP

Aplicação/Serviço Faixa de medição Gás medido/fundo de gás Produto recomendado
Confirmando a Pureza dos Gases UHP 85-100ppt H2, N2, CH4, CO, NMHC, Ar/He, Ar, O2, MultiDetek3

Monitoramento e Controle de Processo

Aplicação/Serviço Faixa de medição Measured Gas/Background Gas Produto recomendado
Tratamento térmico de pastilhas de silício - Monitoramento de traços de oxigênio em fornos de oxidação de pastilhas 0-10 ppm O2 N2, H2 GPR-1600
GPR-1200
Inertização em Fornos de Refluxo de Solda e Fabricação de Wafer <10 ppm O2 N2 Microx
Limpeza de Bolsas em Câmaras de Deposição de Vapor Químico - Monitoramento dos Níveis de Umidade Após Purgação com Nitrogênio de Alta Pureza. 0-100 ppmV H2O
0-10 ppmV H2O
50 ppmV H2O
100 ppmV H2O
-120 to -40 °C
N2 Pura-TX-2W
QMA401

Monitoramento do Oxigênio Ambiente

Aplicação/Serviço Faixa de medição Gás medido/fundo de gás Produto recomendado
Monitoramento Ambiental para Segurança do Pessoal - Proteção do Pessoal Contra O2 Deficiência em Espaços Confinados <19.5-20.0% Ar, N2 Gasenz

Amostra de Impuritos de Gás

Limite de detecção

NOTA: O nível de ruído é baseado nos valores de pico de ruído usando um gás em branco de hélio.