Los gases especiales utilizados en la fabricación de semiconductores deben ser de gran pureza debido a la minuciosa precisión del proceso. Incluso la presencia de trazas de impurezas medidas en partes por billón provocará la pérdida de lotes enteros de obleas. Las mediciones fiables y repetibles de parámetros clave con límites de detección inferiores hasta <100 ppt son esenciales en estas aplicaciones.
Le ofrecemos mediciones fiables de todas las impurezas traza críticas con niveles de detección bajos hasta partes por billón para muchos parámetros. Se beneficiará de la comodidad y la tranquilidad de contar con una solución completa de un único proveedor. También es posible realizar múltiples mediciones de impurezas traza con un único sistema analizador para una mayor comodidad.
Nuestros analizadores y sensores de oxígeno y humedad, junto con los cromatógrafos de gases de proceso, ofrecen una solución completa para supervisar y controlar la pureza de gases inertes, gases especiales y gases tóxicos como nitrógeno(N2), helio(He), argon (Ar), oxígeno (O2), hidrógeno (H2), hexafluroruro de wolframio (WF6), octafluorociclobutano (C4F8), silano (SiH4), germane (GEH4), óxido nitroso (N2O), and trifluroruro de nitrógeno (NF3).
| Aplicación/Servicio | Rango de medición | Gas medido/Gas de fondo | CProducto recomendado |
|---|---|---|---|
| Control de la contaminación por oxígeno de los gases UHP | 0-100ppb | N2, H2, Ar | PI2-UHP100 & PI2-MS1000 |
| Control de la contaminación por oxígeno de los gases secuestrantes UHP H2 utilizados en la soldadura en atmósfera y el recocido de películas de cobre. | 0-100ppb O2 | N2, H2, Ar | PI2-UHP100 & PI2-MS1000 |
| Aplicación/Servicio | Rango de medición | Gas medido/Gas de fondo | Producto recomendado |
|---|---|---|---|
| Control de la contaminación por oxígeno de los gases UHP | 0-100 ppbV H2O 0-10 ppmV H2O 50 ppmV H2O 100 ppmV H2O -120 to -40??C dew point |
Compuestos totalmente fluronados (FFC), N2, H2, Ar, etc. | QMA401 Pura-TX-2WS800-RS |
| Aplicación/Servicio | Rango de medición | Gas medido/Gas de fondo | Producto recomendado |
|---|---|---|---|
| Confirmación de la pureza de los gases UHP | 85-100ppt | H2, N2, CH4, CO, NMHC, Ar/He, Ar, O2, | MultiDetek3 |
| Aplicación/Servicio | Rango de medición | Gas medido/Gas de fondo | Producto recomendado |
|---|---|---|---|
| Tratamiento térmico de obleas de silicio Control de trazas de oxígeno en hornos de oxidación de obleas | 0-10 ppm O2 | N2, H2 | GPR-1600 GPR-1200 |
| Inertización en hornos de reflujo de soldadura y fabricación de obleas | <10 ppm O2 | N2 | Microx |
| Limpieza de conductos en cámaras de deposición química de vapor. Control de los niveles de humedad tras la purga con nitrógeno de gran pureza. | 0-100 ppmV H2O 0-10 ppmV H2O 50 ppmV H2O 100 ppmV H2O -120 a-40 ??C |
N2 | Pura-TX-2W QMA401 |
| Aplicación/Servicio | Rango de medición | Gas medido/Gas de fondo | Producto recomendado |
|---|---|---|---|
| Vigilancia ambiental para la seguridad del personal - Protección del personal contra la deficiencia de O2 en espacios confinados | <19.5-20.0% | Air, N2 | Gasenz |
| Aplicación/Servicio | Rango de medición | Gas medido/Gas de fondo | Producto recomendado |
|---|---|---|---|
| Detección y medición del óxido nitroso | 0-1000ppm | N2O | Sensores infrarrojos de óxido nitroso - Dynament Platinum Series
Sensores de gas por infrarrojos para óxido nitroso - Serie estándar de Dynament |
CNOTA: El nivel de ruido se basa en los valores de ruido pico utilizando un gas blanco Helio.
